上海新阳(300236):半导体业务驱动21Q1经营业绩高增长,购买光刻机布局高端光刻胶项目-跟踪报告之一

21Q1经营业绩同比大幅增长。公司2021年4月7日发布20年业绩快报及一季度预告,(1)2020年实现收入6.94亿元,同比增长8.3％;实现归母净利润2.74亿元,同比增长30.4％。公司间接持有中芯国际股票(688981.SH)的公允价值变动增加净利润2.25亿元。(2)21Q1扣非净利润2200-2300万元,同比增加132％-142％,主要原因是集成电路制造用关键工艺化学材料业务销售同比增长60％。由于中芯国际股票下跌,21Q1公允价值变动预计减少净利润约2000万元,因此21Q1归母净利润约200-300万元。

   中短期:半导体电镀液和清洗液快速增长。上海新阳是中国集成电路制造和封测关键工艺材料龙头企业,已是中芯、长存、长鑫、长电、通富、华天等半导体制造封测企业核心供应商。公司立足电子电镀、电子清洗、电子光刻三大核心技术。(1)公司在半导体传统封装领域功能性化学材料销量与市占率全国第一;(2)公司在集成电路制造关键工艺材料领域芯片铜互连电镀液及添加剂、蚀刻后清洗液已实现大规模产业化,被国内集成电路生产线认定为Baseline(基准线/基准材料)的数量为25条。公司是国内唯一一家能够为晶圆铜制程90-28nm技术节点提供超纯电镀液及添加剂的本土企业,在多个客户全球供应商评比中屡次获得第一名。我们预计公司半导体业务20-23年收入为3、5、7、10亿元。

   长期:战略布局集成电路制造用高端光刻胶项目。公司拟募资开发集成电路制造中ArF干法工艺使用的光刻胶和面向3DNAND台阶刻蚀的KrF厚膜光刻胶产品,力争于2023年前实现上述产品的产业化。公司预计KrF厚膜光刻胶2021年开始实现少量销售,2022年可实现量产,预计ArF(干式)光刻胶项目在2022年可实现少量销售,2023年开始量产,预计当年各项产品销售收入合计可达近2亿元。购买光刻机用于高端光刻胶项目的研发。(1)上海新阳自立项开发193nmArF干法光刻胶的研发及产业化项目以来,安排购买了ASML-1400光刻机等核心设备,该光刻机已于2020年底前运抵国内。该光刻机设备于21年3月已进入合作方北方集成电路技术创新中心(北京)有限公司场地,后续将进行安装调试等相关工作。(2)上海新阳持有38％股权的子公司芯刻微购得ASMLXT1900Gi型二手光刻机一台,该设备可用于研发分辨率达28nm的高端光刻胶。

   盈利预测、估值与评级。考虑公司半导体核心业务快速成长,我们调整上海新阳21、22年归母净利润至1.30亿元(+2.4％)、1.69(+7.0％)亿元。上海新阳半导体业务参考安集科技和沪硅产业2021年约20～24x的PS水平,公司2021年半导体业务收入约5亿元对应约100-120亿元估值;此外上海新阳持有的沪硅产业和中芯国际股权对应约40亿元市值。综上所述,目前市值仍显低估,因此维持"买入"评级。

   风险提示:核心技术泄露风险;美国对半导体行业制裁加剧。