南大光电(300346):先进半导体材料平台,布局国产替代三大产品-投资价值分析报告

先进半导体材料平台型公司,业务包含前驱体、特气、光刻胶三大产品。前驱体领域,公司依托"863"计划项目成果,经数年发展,在技术水平、产品种类、市场拓展上实现跨越式发展。2021年公司MO源市占率接近30％,占据国内第一的市场份额。电子特气领域,公司2013年获得国家"02专项"高纯特种电子气体研发与产业化项目,同年启动砷烷、磷烷等特种气体的研发工作,2019年收购飞源气体,切入含氟电子特气市场。光刻胶领域,公司2017年获得国家"02专项"193nm光刻胶及配套材料的研发项目立项,2020年公司研发的ArF光刻胶产品成为国内通过产品验证的第一只国产ArF光刻胶。

   MO源龙头企业,技术领先客户覆盖度高。MO源是制备LED、新一代太阳能电池、相变存储器、半导体激光器、射频集成电路芯片等的核心原材料,其中90％以上用于生产LED外延片。LED照明市场整体增速较往年有所下降,但Mini-LED的新型显示技术、薄膜太阳能电池的量增以及相变存储器、芯片的快速发展仍对MO源需求起到促进作用。我们预计到2025年全球MO源市场规模将达1.8亿美元,近几年复合增长率为8.3％。公司MO源的合成环节采用独特的合金法,和卤化物法相比工艺简单,原料无腐蚀性,副产物少,价格便宜。公司产品远销亚太、欧美等主流市场,客户覆盖度高,龙头地位巩固。

   国产光刻胶先行者,ArF通过产品验证。光刻胶技术壁垒高企,国产替代诉求强烈,从全球市场份额来看,光刻胶市场主要由日本、美国、韩国企业所把控。2021年东京应化、JSR、住友化学、富士胶片、陶氏化学、韩国东进占据近90％的市场份额。细分到高端的ArF光刻胶,行业垄断格局更为明显。公司自主研发的ArF光刻胶于2020年通过客户的使用认证,线制程工艺可以满足45nm-90nm光刻需求,孔制程工艺可满足65nm-90nm光刻需求,是国内通过产品验证的第一只国产ArF光刻胶。公司预计未来形成年产25吨193nm(ArF干式5吨和浸没式20吨)光刻胶产品的生产规模,有望助力光刻胶产品逐步实现国产替代。

   积极布局电子特气,砷烷磷烷+含氟气体优势显著。电子特气是集成电路、平板显示、LED、太阳能电池等泛半导体领域生产制造过程中不可或缺的关键性材料。我们预计2023年,全球电子特气市场总规模934亿元,其中IC市场401亿元,国内总市场238亿元,其中IC市场100亿元。公司自主研发的磷烷、砷烷打破海外垄断,产品纯度达到6N标准以上级,进入英特尔、欧司朗、飞利浦等一流公司供应商名录。同时,公司通过控股飞源气体切入三氟化氮、六氟化硫、四氟化碳产品,已成功进入台积电、中芯国际、京东方、鸿海集团等多家国际领先企业供应名单。公司持续扩张特气产能,发展动力十足。

   风险因素:技术突破不及预期;下游客户导入进度不及预期;产品价格波动;产能建设进度不及预期。

   投资建议:公司是国内先进半导体材料平台型企业,业务涉及前驱体、电子特气、光刻胶三大关键材料,发展态势良好。我们预计公司2021-2023年的归母净利润分别为1.35/1.96/2.48亿元,对应EPS预测分别为0.32/0.47/0.59元。综合横向PE以及纵向PE估值,考虑公司的成长性,我们认为2022年110倍PE是合理的估值水平,给予公司目标价52元,首次覆盖,给予"买入"评级。